台積電 2 奈米洩密案重判！東京威力科創遭起訴求罰 1.2 億元

台積電今年通報疑似 2 奈米製程技術遭竊，引發台灣檢調大規模調查。案件從個人涉案擴大到東京威力科創（Tokyo Electron）管理失守問題。台灣檢調最新宣布，已起訴威力科創台灣子公司，並向法院求處 1.2 億元新台幣罰金。

台積電通報機密外流檢調啟動深入調查

台積電今年向政府通報疑似 2 奈米技術外流，觸發台灣檢調立案偵查。這起案件的核心人物是一名陳姓工程師，他曾任職於台積電，後轉至東京威力科創台灣子公司。調查發現，陳姓工程師疑似利用過往在台積電建立的人脈，向原同事索取高度敏感的 2 奈米製程資料。

2 奈米製程是台積電當前最先進的技術之一，代表著全球半導體製造的最前沿。這個製程技術涉及晶圓製造的核心機密，包括設備參數、製程配方、良率優化方法等關鍵資訊。這些資料一旦外洩，不僅可能讓競爭對手縮短技術差距，更可能危及台灣在全球半導體產業鏈中的領先地位。

由於被索取的內容屬晶圓製程核心，檢調後續擴大調查，以釐清是否涉及跨境用途與安全層面問題。台積電作為全球最大的晶圓代工廠，其技術優勢是台灣半導體產業的核心競爭力。任何涉及先進製程技術的外洩，都可能對台灣經濟安全造成重大威脅。

檢調在初步調查階段就意識到案件的嚴重性。陳姓工程師索取的資料範圍廣泛且具體，顯示其對台積電 2 奈米製程有深入了解，且知道哪些資訊最具價值。這種針對性的資料索取行為，引發了檢調對其動機的高度關注。

涉助日商設備認證案情延燒安全層級

今年 8 月，檢調正式起訴三名涉案人士。調查指出，陳姓被告在任職台積電與威力科創期間，多次試圖取得先進製程相關資訊，甚至疑似打算以取得的資料協助威力科創改善蝕刻設備，目標是通過台積電的 2 奈米製程認證。

這個發現將案件性質從單純的個人竊密行為，升級為可能涉及企業組織的技術竊取。威力科創是全球領先的半導體設備製造商，其蝕刻設備是晶圓製造過程中的關鍵工具。如果能夠獲得台積電的製程參數，威力科創理論上可以針對性地優化其設備性能，以更容易通過台積電的嚴格認證要求。

台積電對供應商設備的認證過程極為嚴格，通常需要數月甚至數年的測試和優化。如果設備商能事先獲得製程參數，將大幅縮短認證時間並提高通過率。這種不公平競爭優勢，不僅損害台積電的商業利益，也破壞了半導體設備產業的公平競爭環境。

案件升級的三大關鍵因素

跨境技術移轉風險：涉案資料可能被用於海外，威脅台灣技術優勢

設備商認證舞弊：疑似利用機密資訊取得不當競爭優勢

安全層級威脅：先進製程技術外流可能影響台灣安全

檢方也指出，涉案三人有意將台積電的專有技術帶往海外，使案件從單純竊密升高至安全等級。台灣法規明確規定，任何涉及國家核心技術的洩密行為，都可能構成安全犯罪。半導體製造技術被視為台灣的國家核心利益，因此檢方決定起訴涉案人士。

威力科創遭起訴未盡防範義務罰 1.2 億

事件於 2025 年底進入關鍵階段，台灣檢方正式起訴威力科創台灣子公司，認為其對員工行為的管控及營業秘密保護不足，未能有效阻止涉案工程師竊取技術。這是台灣司法史上首次針對外商半導體設備公司提起如此重大的訴訟。

檢方強調，並未發現威力科創使用或受惠於台積電機密，但仍依「未盡防範義務」求處 1.2 億元新台幣罰金。這個法律論述的核心是：即使公司本身沒有直接參與或受益於竊密行為，但如果未能建立有效的內部控制機制，未能監督員工行為，仍應承擔企業責任。

1.2 億元的求刑金額在台灣營業秘密案件中屬於重罰等級。這個數字的計算基礎包括：台積電 2 奈米技術的商業價值、涉案資料的範圍和敏感程度、對台灣半導體產業的潛在損害，以及對其他企業的警示作用。檢方希望透過這個重罰，向所有在台灣運營的外商企業傳遞明確訊息：必須嚴格遵守台灣的營業秘密保護法規。

威力科創在案發後的處理也成為檢方評估的重點。雖然公司在得知員工涉案後立即開除相關人員，但檢方認為這些事後補救措施無法彌補事前預防機制的缺失。企業應該在員工招聘、培訓和日常管理中，建立完善的營業秘密保護制度，而不是等到事件發生後才亡羊補牢。

雙方回應與半導體產業警示

威力科創回應表示已開除相關員工，正確認相關細節並全力配合調查，並重申未發現資料外洩至第三方。該公司發言人強調，威力科創一向重視智慧財產權保護和商業道德，對於員工的不當行為深感遺憾，並已採取措施加強內部管理。

台積電也發表聲明強調，將持續強化內部監控並配合主管機關，以確保競爭優勢不受外部干擾。台積電表示，公司已經啟動全面的內部審查，檢視員工離職管理、資料存取控制和供應商管理等各個環節，以防止類似事件再次發生。

這起案件對台灣半導體產業產生了深遠影響。首先，它暴露了人才流動帶來的技術外洩風險。半導體產業高度依賴專業人才，但人才在公司間的流動也可能成為技術洩密的管道。其次，它凸顯了供應商管理的挑戰。台積電與設備供應商的合作涉及大量技術交流，如何在合作中保護機密成為新課題。